电极掩膜模板加工用什么方法？

电极掩膜模板加工用什么方法？

电极掩膜模板加工用什么方法？卓力达公司长期供应高精度电极掩膜模板加工制作产品，不锈钢掩膜板，价格实惠，量大从优。
电极掩膜模板产品可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等设备中，用来制备太阳能电池，光电探测器，LED，激光器，场效应晶体管等各种器件电极及各种薄膜材料图形设计。
我们已与众多如：北京大学，清华大学，中科院苏州纳米所，中科院深圳先进院，兰州物化的，合肥物质所，武汉大学，华中科技大学，中科院昆明植物研究所，北京航空航天大学，山东大学，浙江大学，吉林大学，华南理工，中山大学，东南大学，苏州大学，太原理工大学等国内众多的高校和科研院所以及高技术企业形成了长期合作关系，积累了丰富的设计和制备经验，具备诸多优势。
卓力达公司的电极掩膜模板制备工艺主要采用曝光腐蚀工艺（与光刻法在硅表面制备高精度的图案类似），这种方法可以根据客户要求灵活设计各种图案，且制备出来的图案尺寸标准。我们的图案尺寸精度可以达到0.01mm以上，边缘锐利无毛刺，开孔直线度好，真圆度好。

在材质的选取方面，我们选用高韧性的SUS304 H不锈钢材料，这样做出来的掩模板不但精度高，而且表面光滑，产品不易受弯折而变形，经久耐用，同时还能够让掩模板与器件保持很紧密的贴合，减少阴影效果。
我们所采用的不锈钢厚度包括0.03mm,0.05mm,0.06mm,0.08mm到1 mm的各种尺寸，采用较薄的不锈钢制备出来的掩模板所产生的阴影效果会更少,扰度更可控。
本公司承接各种图案定制，客户最好能提供包含尺寸的CAD版设计图。如果画图实在有困难，我们可以根据客户描述来绘制，同时我们还能对客户的掩模板设计提供一些建议。